4/21-27 学習内容

体調が優れず、なかなかブログに辿り着くことができませんでした…
先月父の件で帰省して以来、体調がやや悪いかすごく悪いの二択で、どうにもいけませんね。

明日からのゴールデンウィークも前半はまた幼児2人を連れて帰省しなければならないので、万全の準備で臨みたいと思っています…

岡野の化学は有機化学編①が終わったので、他の参考書を使用して一通り復習してみました。

以前どこかのビデオで管理人さんもおっしゃってましたが、いくつかの参考書を見比べてみると、説明の仕方も違うし、わかりやすいですね。
頭の中でポコポコと空いてた穴が少しずつ埋まってきました。

この後以前購入した「大学への橋渡し 有機化学」もやりたいんですが、時間がかかりそうなので、気になった箇所が出てきたら参照することにして、一旦対訳シリーズに戻りたいと思います。

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先日、所属している派遣会社から教育訓練の一環でオンライントレーニングを受けるようにと指示があったので、いくつか受けてみました。

指定コースの一つがセルフコーチングだったんですが、内容のほとんどは講座のビデオ内で言われていることで、あまり新しい内容はありませんでした。

ただ、フィードバックの項目で、計画実行中は結果を毎日振り返るべしとあったんですが、そこで「気が付いたら予定を大きく下回っていた、というのは絶対に避けること。発見が早いほど、対策の手も打ちやすい。」と書かれていて、あぁ、こうなりがちだから気をつけねば…と反省。

1週間毎、2週間毎、1ヶ月毎ぐらいの単位でもう少しまとまった単位の進捗確認をしていきたいと思います。

4/18-20 学習内容

【ビデオ視聴】
岡野の化学・その他

・TC0046 岡野の化学(46)
・TC0047 岡野の化学(47)
・TC0048 岡野の化学(48)
・TC0049 岡野の化学(49)
・TC0049 岡野の化学(50)

・1802 講座受講ブログとマネタイズ
・1801 受講開始直後の疑問(Q&A)

・TC0002 岡野の化学(2)(復習)
・TC0003 岡野の化学(3)(復習)
・TC0004 岡野の化学(4)(復習)

【読んだ特許】
・研磨ヘッド、研磨ヘッドを有するCMP研磨装置およびそれを用いた半導体集積回路の製造方法
・再生研磨剤スラリーの調整方法

 

引き続き岡野の化学を進めていますが、出勤途中の歩いている間に岡野の最初のほうのビデオを聴きなおしています。

この頃は炭化水素基のRというのがいまいちよく理解できていないまま話を聞いていたなあと思い出しました。
わかっているつもりのことでも、もう一度説明を聞いてみると、「そうだったのか」と改めて思うこともあるし、戻ってしっかり理解することも大事だなと。

なかなか思うように時間の取れない毎日ですが、とにかく止まらないこと。
昨日の自分と比べて少しでも成長できているように進んでいきたいです。

4/16-17 学習内容

【ビデオ視聴】
岡野の化学

・TC0041 岡野の化学(41)
・TC0042 岡野の化学(42)
・TC0043 岡野の化学(43)
・TC0044 岡野の化学(44)
・TC0045 岡野の化学(45)

 

いい加減寿命なのでiPhoneを新しく買い替えて、ついでにキャリアもいわゆる格安モバイルの方へ乗り換えるために、諸々手続きやらに追われています。

今回初めて一括で端末を買いましたが、しかしお高いですね…涙
でも勉強ツールとしてもかなり使ってるので、ぐっとこらえて買いました。

これで快適なビデオ視聴環境になったので、これからもガツガツ使いたいと思います!

4/12-15 学習内容

【ビデオ視聴】
対訳シリーズ・岡野の化学・その他
・0201 P&G特許を読む(91)
・0202 P&G特許を読む(92)
・0203 P&G特許を読む(93)
・0204 P&G特許を読む(94)
・0205 P&G特許を読む(95)
・0206 P&G特許を読む(96)
・0207 P&G特許を読む(97)

・TC0038 岡野の化学(38)
・TC0039 岡野の化学(39)
・TC0040 岡野の化学(40)

・1792 露天掘のやり方(生体材料編)
・1793 受講生ブログの活用法
・1795 「一は全、全は一」の発想法

【読んだ特許】
・半導体装置の製造方法および半導体製造装置

【届いた本】
・新材料科学の最前線 - 未来を創る「化学」の力  講談社ブルーバックス
・新しい物性物理 ‐物質の起源からナノ・極限物性まで  講談社ブルーバックス

 

ブログの更新がまとめてになってしまいましたが、やっとP&G特許が終わりました。
ちょっと時間かかりすぎですね…
次の対訳シリーズに進む前に、少し岡野を集中して進めたいと思っています。

そして「一は全、全は一」の発想法のビデオを観て、まずはもう一本吸光分析の特許を読もうと思ったんですが、ちょうどよさそうなのがなかったので、ではCMP法関連の特許を読んでみました…のはずが、読んでから実はCMP法に関する特許ではなくて、CMP法だと研磨ダメージが生じるから違う方法で、というものだと気づきました… がーん。

こちらも一応要約は以下です。

—————————–

近年、半導体装置の製造において、CMR(化学機械研磨)法が広く用いられているが、CMP法では、砥粒による機械的なダメージを避けることができず、被加工面に研磨ダメージが生じる、という問題がある。

そこで、以下の工程を繰り返すことにより、上記研磨ダメージを与えることなく被加工面を平坦化する。

1.被加工物:半導体ウエーハ上の金属膜に、第一触媒(酸化性)を接触
   ⇒金属膜から電子を奪い、酸化を促進
    例)金属膜がタングステンの場合
      W → W⁴⁺ + 4e⁻

2.金属膜表面の金属原子が、処理液(純水:H₂O、過酸化水素:H₂O₂等)の酸素イオンに反応
   ⇒金属膜表面に酸化膜が成膜
    例)
       W⁴⁺ + 4e⁻ + 2H₂O → WO₂ + 2H₂

3.第二触媒(塩基性)を金属膜に接近または接触
   ⇒上記処理液中の水酸化物イオンが第二触媒の表面に吸着
   ⇒金属膜表面の酸化膜が溶解され、処理液中に溶出
    例)
      WO₂ + 2OH⁻ → WO₃⁻ + H₂O

—————————–

そもそも機械的な研磨の部分がなくて、化学的研磨のみ、という感じでしょうか。

イメージはできますが、酸化・還元とイオンのあたりがまだ弱いので、この辺もう一度復習してみます。

ビデオ 1795 「一は全、全は一」の発想法

ビデオ 1795 「一は全、全は一」の発想法を拝聴しました。

私が読んだ特許の要約だけでささっとあんなマインドマップができるなんてすごいです…
早速自分でも同じように作ってみました。

恥ずかしながら、以前から「電気・電子」という分野はどんなものがあるのかなと疑問だったんですが、半導体はここに入るんですね。機械…?と思ってました…

半導体の製造プロセスについて見てみると、かなり多くの製造工程があって、今回の平坦化はほんの一部なんですね。
ということは、「フォトレジスト塗布」や「エッチング」等でまた同じように枝分かれしていって…と思うと、自分の分野の拡げ方は無数にあるように思えました。

半導体については勉強したいと思っていたので、まずは今回示していただいた方向で進んでみて、その後は自分で材料分野にも繋げられるように考えてみることにします。

あとは、完全に興味だけで言っていますが、重機を見るのが好きなので、もっと先には重工業系や土木系の特許も読めるようになりたいと思ってます。
勉強しないとですね(;^_^A

そして薮内さんのKindle第2弾、もちろん購入します!^^

4/11 学習内容

【ビデオ視聴】
対訳シリーズ・その他
・0196 P&G特許を読む(86)
・0197 P&G特許を読む(87)
・0198 P&G特許を読む(88)
・0199 P&G特許を読む(89)
・0200 P&G特許を読む(90)

・1791 CV項目の注意点(Q&A)
・1781 他人の体験談からいかに学ぶか

【読んだ特許】
・吸光分析装置及びその検量線作成方法

【作業】
・吸光分析に関する調べもの

 

吸光分析装置に関する特許を読んでみました。

この特許を以下のように要約しました。
———————

半導体デバイスの平坦化技術であるCMP(化学的機械研磨)法では、液体中に砥粒を分散したスラリーを供給しながら研磨するが、その際、半導体デバイス上に形成された膜を研磨し易くするために過酸化水素水等の酸化剤を添加したものが用いられている。

この酸化剤の添加量は高精度に調整する必要があるため、酸化剤の濃度の測定技術を高めることが求められているが、従来の濃度測定においては、スラリーのロット差や、粒子の偏在などによって仕様値との間に多少の差があり、スラリー中の粒子による光の散乱影響により、従来の吸光分析装置により得られた酸化剤の濃度に測定誤差が生じている。

そこで、濃度の異なる粒子分散液(A-D)それぞれに濃度の異なる酸化剤(a-e)を添加して、それらの光吸収スペクトルを測定し、多変量解析することによって、粒子濃度に関係なく単一の検量線を作成する。
その結果、スラリーの粒子濃度の影響による酸化剤の濃度の測定誤差を低減することができる。

———————

分散については、ちょうどP&G特許の対訳で出てきたのでイメージしやすかったです。
光吸収スペクトルについてはまだあまりよく仕組みがわかっていないため、今後勉強が必要。

半導体についてはまだ全く知識がないので、平坦化するために化学的に研磨する、というのは初めて知りましたが、面白いですね。
CMP法について調べたサイトでも、出典が前田和夫さんの「はじめての半導体製造装置」だったので、ビデオでも何度かお話がありましたが、やはり半導体の製造過程を学ぶにはこちらの本なんですね。
「はじめての半導体プロセス」とあわせて注文しました。

4/7-10 学習内容

【ビデオ視聴】
岡野の化学・対訳シリーズ
・TC0034 岡野の化学(34)
・TC0035 岡野の化学(35)
・TC0036 岡野の化学(36)
・TC0037 岡野の化学(37)

・0174 P&G特許を読む(64)
・0175 P&G特許を読む(65)
・0176 P&G特許を読む(66)
・0177 P&G特許を読む(67)
・0178 P&G特許を読む(68)
・0179 P&G特許を読む(69)
・0180 P&G特許を読む(70)
・0181 P&G特許を読む(71)
・0182 P&G特許を読む(72)
・0183 P&G特許を読む(73)
・0184 P&G特許を読む(74)
・0185 P&G特許を読む(75)
・0186 P&G特許を読む(76)
・0187 P&G特許を読む(77)
・0188 P&G特許を読む(78)
・0189 P&G特許を読む(79)
・0190 P&G特許を読む(80)
・0191 P&G特許を読む(81)
・0192 P&G特許を読む(82)
・0193 P&G特許を読む(83)
・0194 P&G特許を読む(84)
・0195 P&G特許を読む(85)

 

ここ数日ちょっとバタバタしているため、取り急ぎ記録のみ。

4/6 学習内容

【ビデオ視聴】
岡野の化学・対訳シリーズ・その他
・TC0033 岡野の化学(33)

・0170 P&G特許を読む(60)
・0171 P&G特許を読む(61)
・0172 P&G特許を読む(62)
・0173 P&G特許を読む(63)

・0642 特許翻訳におけるCAS番号活用術(Q&A)
・0664 翻訳者になるためのノート活用術(Q&A)

 

興味のあるショウやコンベンションはカレンダーに登録していますが、ほとんどが平日なので、有休取って行かないとと思うと、優先順位を考えて計画立てないといけないですね。
こちらのサイトを眺めてましたが、興味のあるものがたくさんあって困ります…

4/5 学習内容

【ビデオ視聴】
岡野の化学・対訳シリーズ・その他
・TC0031 岡野の化学(31)
・TC0032 岡野の化学(32)

・0166 P&G特許を読む(56)
・0167 P&G特許を読む(57)
・0168 P&G特許を読む(58)
・0169 P&G特許を読む(59)

・1626 知子の情報について
・1501 分からないで終わらせない勉強法

4/4 学習内容

【ビデオ視聴】
岡野の化学・その他
・TC0030 岡野の化学(31)

・0465 特許明細書との付き合い方
・1778 チャート式のススメ(化学編)

【その他】
宇宙一わかりやすい高校物理(力学・波動)

 

帰宅後パソコンに向かってたら、猛烈な眠気に襲われてそのまま突っ伏して結構な時間寝てしまってました…
そのため、勉強はほとんど進まずです涙

先月の風邪から咳だけが抜けず、咳喘息になってしまったようで、処方された抗生物質やら咳止めやらの影響での眠気のような気もするので、薬を飲む時間を気をつけるようにします。

 

会社のお昼休みにものすごく易しい参考書で少しずつ物理を勉強していますが、今は力学をやっています。

力のモーメントで、たくさんある力の中でどの力が回転に関係してどの力が関係しないのか、というところがまだよくわかっていないので、次はこの辺をネットでよく調べる予定です。